起垄内嵌式基质栽培垄规格对根区温度和甜椒生长的影响.pdf
<p>为了明确起垄内嵌式基质栽培不同垄规格的温热性能,在日光温室中进行大田试验,以土垄(T0)为对照,设置了窄垄(T1)、窄垄黑膜(T2)、矮垄(T3)、垫高垄(T4)和标准垄(T5)5种处理,探究栽培垄高度、宽度和覆膜类型对根区温热以及甜椒生长的影响。试验结果表明:黑色地膜的增温效果较差,昼夜平均温度较白色地膜低1.0左右;高度对根区温度变化的影响表现为:白天高温时段高度越高温度越高,夜间则相反;宽度对根区温度变化的影响表现为:白天时宽度越宽根区温度越低,夜间相反。虽然各处理根区温度日变化存在一定的差异,但昼夜平均温度均在17.519.0,彼此间温差在1.0左右。栽培垄的高度、宽度和覆膜类.</p>
个人主页